重慶兩江新區半導體產(chǎn)業(yè)園項目落戶(hù)兩江新區水土高新園，位于方正大道與云漢大道西北交匯處，占地377畝，總建筑面積約44萬(wàn)平方米。兩江半導體產(chǎn)業(yè)園定位為中國西部半導體發(fā)展新引擎、重慶半導體產(chǎn)業(yè)創(chuàng )新示范基地。未來(lái)將被打造成一個(gè)以半導體產(chǎn)業(yè)為核心，ＩＣ設計為重點(diǎn)，輻射汽車(chē)電子、人工智能、物聯(lián)網(wǎng)、智能終端等產(chǎn)業(yè)，承載公共服務(wù)平臺、產(chǎn)業(yè)創(chuàng )新孵化、研發(fā)設計總部、產(chǎn)業(yè)應用延伸等功能的特色園區。園區產(chǎn)品類(lèi)型豐富，除了企業(yè)總部獨棟、多層標準廠(chǎng)房、高層研發(fā)樓、地標建筑研發(fā)樓外，還將依托政府搭建一個(gè)可滿(mǎn)足ＩＣ設計企業(yè)流片、封裝測試等需求于一體的半導體產(chǎn)業(yè)公共服務(wù)平臺，以滿(mǎn)足IC設計類(lèi)企業(yè)的需求。